クリーンルーム1
超高真空薄膜作成装置(MBE)

超高真空下で、金属・半導体超薄膜ならびに超格子多合膜の作成・評価を行う。
酸化拡散炉

半導体にドナーやアクセプタ元素を熱拡散によって添加したり酸化膜の形成ができる。
多元スパッターリング装置

アルゴン・スパッターリングにより金属・半導体薄膜作成や基盤形成などを行う。
プラズマエッチング装置

半導体や絶縁物等の薄膜の微細加工を行う。