電子線描画装置

電子線描画装置

仕様  日本電子(株) JSM-5310 / 東京テクノロジー BeamDraw

・CADで設計した各種図形をレジスト膜に高精度描画。W電子銃・最小ビーム径役10nm。電子ビーム高速ブランキング(静電型 10MHz)。ラスタ走査方式。最小描画線幅100nm以下。0.1μm高精度試料ステージ装備。重ね合わせ描画及び広域つなぎ描画が可能。ネガ、ポジ反転機能。SEM画像ストア機能(1000×1000、256階調)。

・スピンコータ(ミカサ(株)社製 1H-D3):
 レジスト膜塗布。回転数300〜8000r.p.m.、試料サイズ max.100mmφ

設置場所:SVBLクリーンルーム2

管理者:伊藤和男 itohk@el.gunma-u.ac.jp

分類
A. 材料作成、微細加工
更新日
2005/01/21