A. 材料作成、微細加工

分子線エピタキシー装置

金属あるいは半導体の薄膜作成

高周波スパッタリング装置I

薄膜作製、電極基板の形成

高周波スパッタリング装置II

磁性体、半導体、高温超電導体、光機能性材料などの薄膜合成

高周波スパッタリング装置III

高周波スパッタリングにより、薄膜の形成を行う

酸化拡散炉

研究室などで実験・試作に使用可能な小型化3段管状炉

レーザアブレーション装置

レーザアブレーション現象を利用し、高融点材料の薄膜形成

微細加工用エキシマレーザ装置

レーザを用いた新しい材料生成、微細加工法の開発

電子線描画装置

電子線リソグラフィーにより半導体等の微細加工

反応性イオンエッチング装置

シリコンおよび酸化膜のエッチング

紫外線露光光源

密着露光方式のフォトリソグラフィの光源