A. 材料作成、微細加工

分子線エピタキシー装置

金属あるいは半導体の薄膜作成

高周波スパッタリング装置I

薄膜作製、電極基板の形成

高周波スパッタリング装置II

磁性体、半導体、高温超電導体、光機能性材料などの薄膜合成

高周波スパッタリング装置III

高周波スパッタリングにより、薄膜の形成を行う

酸化拡散炉

研究室などで実験・試作に使用可能な小型化3段管状炉

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B. 物性評価、特性計測

X線回折装置

粉末X線回折法による

接触角計

固体表面の濡れ性、撥水性、表面張力などの測定

紫外可視近赤外分光光度計

物質の光透過率及び反射率の測定

走査型プローブ顕微鏡装置

物質表面の凹凸、磁気力、表面電位、摩擦力分布などの測定

ナノメータ光計測システム精密機能光源部

ビート周波数 1 MHzの直交二周波発振する横ゼーマンHe-Neレーザ

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C. デバイス設計、評価システム

光波評価測定システム

光信号を様々な側面から評価・測定する機器類を提供

D. その他備品

ネットワークアナライザ

周波数:300k-8GHz

ロジックアナライザー

スペクトラムアナライザー

周波数:9k-1.5GHz

オシロスコープ

帯域:1.5GHz,8GS/s

パルスパターン発生装置

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E. 未分類